Кислородная очищающая маска О2 Couture Oxygenic Peeling Mask Cremorlab, 100 мл

4 500 

В наличии

25% сегодня, остальное – потом

Оплатите сегодня 25% стоимости покупки, а остальное — тремя платежами раз в две недели.

Сегодня

1125 ₽

04 июн

1125 ₽

18 июн

1125 ₽

02 июл

1125 ₽

оформить покупку в 4 платежа
  • Пилинг-маска с отшелушивающими ингредиентами растительного происхождения, действует, образуя пену из обогащенной кислородом формулы средства, которая эффективно и быстро отшелушивает поверхностный слой эпидермиса и активизирует процессы регенерации клеток
  • Обладает очищающим, антибактериальным и увлажняющим эффектом, после применения кожа остаётся ровной, гладкой и свежей
  • Для всех типов кожи, включая чувствительную

В наличии

Добавить в избранное
Добавить в избранное

Описание

Кислородная очищающая маска

Пилинг-маска с отшелушивающими ингредиентами растительного происхождения, действует, образуя пену из обогащенной кислородом формулы средства, которая эффективно и быстро отшелушивает поверхностный слой эпидермиса и активизирует процессы регенерации клеток. Одновременно пузырьки пены глубоко и мягко очищают поры и убирают остатки макияжа, естественным путем нормализуя процесс обновления клеток кожи. Запатентованное маркой соединение кислорода и экстрактов морских водорослей спирулины и планктона (Marine Oxygen Plasma™) позволяет доставлять кислород, минеральные вещества, которыми так богата вода источник Гюмжин, в глубокие слои кожи. Обеспечивает интенсивное увлажнение и антиоксидантную защиту, активизирует метаболизм кожи, восстанавливая ее защитные механизмы. Содержит AHA, PHA и BHA кислоты. Комплекс из растительных экстрактов ундарии перистой и гаултерии лежачей обладает очищающим, антибактериальным и увлажняющим эффектом, после применения кожа остаётся ровной, гладкой и свежей.

Не содержит парабенов, минеральных масел, бензофенона, спиртов, сульфатов и PABA. Для всех типов кожи, включая чувствительную.

Состав: Вода, Кокамидопропил бетаин, Динатрий кокоамфоацетат, Акрилат сополимер, Кокамид ДЭА, Поваренная Соль, Глицерин, Дисилоксан, Метил перфлюоробутул, ПЭГ-7 Глицерил кокоат, Пентилен гликоль, ПЭГ-400, Гидроксиэтилцеллюлоза, Ксантановая камедь, Феноксиэтанол, Аромат (Парфюм), Гликолевая кислота, Этилгексилглицерин, Этилгексил изононаноат, Изононилизононаноат, Полигидроксистеариновая кислота, Диметикон, Экстракт из листьев дерева нима, Салициловая кислота, Онсен-Суй, ТЕА-Кокоил глутамат, Бутеленгликоль, С12-15 Алкил бензоат, Этилгексил Гидроксистеарат, Изопентан, Кокамидопропил ПГ-димония хлорид фосфат, Масло Апельсина, Экстракт Кокцинии Индийской, Гексиленгликоль, Полисорбат 80, Масло Лаванды, Алкоголь, Масло Мандарина, Экстракт Алое, Экстракт Баклажана, Бетаин, Экстракт Базилика, Каприлил гликоль, 1,2-гександиол, масло Литсея Кубеба, Карнитин, Экстракт Куркумы, Экстракт Водорослей Кораллина, Хлорфенезин, Экстракт Ундарии перистой, Экстракт Планктона, Коффеин, Изофлавоны Сои, Аргинин ферулат, Экстракт Водоросли Спирулина, Кислород (0,1 ppm)

Способ применения: Нанести на сухую кожу круговыми массажными движениями. Оставить на 3 минуты до образования густой пены. Тщательно промыть теплой водой. Нанести тоник и крем

Страна производства: Корея

Детали

Бренд

Страна производитель

Корея

Отзывы

Отзывов пока нет.

Будьте первым, кто оставил отзыв на “Кислородная очищающая маска О2 Couture Oxygenic Peeling Mask Cremorlab, 100 мл”

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *